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Pallier femelle GMP revétu en diamant

Mélange général GMP
Deux modèles de mélangeurs NovAseptic sont disponibles pour le mélange général et la mise en suspension. Le mélangeur GMP est le modèle standard et le premier choix pour les applications les plus critiques dans vos étapes de processus qui sont soumises à des exigences strictes concernant les exigences de stérilisation à l'état installé. Le mélangeur GMP fonctionne sans rejet de particules et convient pour le mélange général, le contrôle de la température dans les solutions et les applications sensibles au cisaillement.
Pallier femelle revétu en diamant
Le pallier diamanté améliore les propriétés de fonctionnement à sec et prolonge ainsi la durée de vie de la tête de mélange.
Matière
open close

Tête de mélange: 1.4435 (316L)

Palier femelle: Ceramic SiC (SsiC) revétu en diamant

Surface
open close

Polissage mecanique ou mecanique et électrolytique.

Aucun composé de polissage d'origine animale n'est utilisé.

Température d'utilisation
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5 à 135 °C (41 à 275 °F)
marquage
open close
Chaque tête de mélange est étiquetée individuellement pour une traçabilité complète conformément à nos procédures
Options
open close
Matière spécial comme Hastelloy, C22, 1.4539 ect et versions sur mesure disponioble sur demande
Pallier femelle GMP revétu en diamant
Type A
(mm)
B
(mm)
C
(mm)
Surface Article №
GMP 50 96.0 52.0 34.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM05/12DC
GMP 50 96.0 52.0 34.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM05/12EPDC
GMP 100 120.0 53.0 56.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM1/12DC
GMP 100 120.0 53.0 56.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM1/12EPDC
GMP 1000 160.0 71.0 64.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM10/120DC
GMP 1000 160.0 71.0 64.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM10/120EPDC
GMP 10000 220.0 150.0 87.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM100/12DC
GMP 2000 184.0 73.0 87.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM20/12DC
GMP 2000 184.0 73.0 87.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM20/12EPDC
GMP 500 142.0 71.0 56.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM5/120DC
GMP 500 142.0 71.0 56.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM5/120EPDC
GMP 5000 192.0 115.0 106.0 polie mécaniquement, Ra < 0.38µm N.GM50/12DC
GMP 5000 192.0 115.0 106.0 electropoli, Ra < 0.38µm N.GM50/12EPDC